大理石拋光是石材護(hù)理晶面處理的前一道工藝流程或石材光板加工的后一道程序。是如今石材護(hù)理的重要的工藝流程之一，它不同于傳統(tǒng)意義上清潔公司業(yè)務(wù)范圍的大理石清洗打蠟拋光。

一、大理石拋光的現(xiàn)實(shí)意義：

1、大理石在經(jīng)過拋光磨塊拋光后，光度可達(dá)90-100度，還原了石材出廠時(shí)的光度，實(shí)現(xiàn)了石材價(jià)值再現(xiàn)。晶面處理護(hù)理時(shí)，可以省時(shí)、省力、節(jié)約成本，具能。大理石打蠟拋光后，其表面光度下降，模糊不清晰，降低了石材的功能價(jià)值，不具觀賞性。

2、由以上本質(zhì)與表象區(qū)別可以發(fā)現(xiàn)：大理石打蠟拋光被淘汰，淡出市場。由于大理石打磨拋光晶面護(hù)理的工藝原理與方法、能使大理石具觀賞性和延長其使用壽命。

二、大理石拋光與大理石打蠟的區(qū)別：

1、本質(zhì)區(qū)別：

a、大理石磨塊拋光是石材晶面處理的前奏或石材加工中的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機(jī)酸、金屬氧化物等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機(jī)械磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱能，水的作用在比較光滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)化合作用，從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度，光度可達(dá)90-100度。此晶體層是石材表層（1-2mm厚）的改性化合晶體層。

b、大理石清洗是大理石打蠟拋光的前奏，大理石構(gòu)件清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護(hù)措施，如今已經(jīng)失去市場和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材（拋光板）面上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄涂層，就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過高速、低壓力的拋光機(jī)配合纖維墊在石材表面摩擦，使樹脂涂層加光亮的一個(gè)過程。由于產(chǎn)品的新，后來又出現(xiàn)了特光蠟、免拋蠟等，此涂層就類似于木地板上油的清漆。

c、大理石護(hù)理晶面處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學(xué)物的物理和化合作用過程。石材表層與底層化合成一個(gè)整體，不存在脫離層。

d、大理石打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的，一層樹脂膜，與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟，可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。

2、表象區(qū)別：

a、大理石磨塊拋光是石材理護(hù)理晶面處理的前奏，石材護(hù)理拋光后光度高、清晰度高，、耐踩，不易刮花，是石材使用功能的真實(shí)體現(xiàn)和價(jià)值延伸。

b、打蠟拋光后的光度低，光度不清晰、而且很模糊，不、不耐水，易刮花、氧化變黃使石材本質(zhì)形象降低。

二、大理石平臺的性能和主要優(yōu)點(diǎn)

大理石平臺的特點(diǎn)主要是精度穩(wěn)定、維護(hù)方便。這是因?yàn)榇罄硎脚_取材于地下的巖石層，經(jīng)過億萬年自然時(shí)效，形態(tài)極為穩(wěn)定，不用擔(dān)心因常規(guī)的溫差而發(fā)生變形。大理石平臺是經(jīng)過嚴(yán)格的物理試驗(yàn)及選擇的花崗石料，結(jié)晶細(xì)密，質(zhì)地堅(jiān)硬。大理石平臺可用于機(jī)械工廠的測量工具及檢驗(yàn)工作，在重負(fù)荷及一般溫度下保持穩(wěn)定。

但是缺點(diǎn)是，不能承受過大的撞擊，敲打，濕度高會(huì)變形，吸濕性為1%.大理石平臺是用的石質(zhì)材料制成的基準(zhǔn)測量工具，對儀器表，工具，機(jī)械制件的檢驗(yàn)，都是理想的基準(zhǔn)面.特別是用於的測量方面，由於它的特性，而使鑄鐵平板相形見拙.大理石平臺適用于工業(yè)生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)室的測量工作.大理石平板具有：、不生銹、不磁化、不變型、好等優(yōu)點(diǎn)。由于大理石系非金屬材料，磁性反應(yīng)，亦無塑性變形。